財聯社9月17日訊，昨日盤后，國新辦就中國科學院“率先行動”計劃第一階段實施進展情況舉行發布會。
發布會上，中科院院長白春禮表示：面臨美國對中國高科技產業的打壓，我們希望在這方面能做一些工作。我們把美國“卡脖子”的清單變成我們科研任務清單進行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機，還有一些關鍵的核心技術、關鍵原材料等，我們爭取將來在第二期，聚焦在國家最關注的重大的領域，集中我們全院的力量來做。
目前高精度的光刻機只有荷蘭、美國、日本、德國等少數企業掌握，其中荷蘭的阿斯麥公司（ASML）更是其中的龍頭老大，并已經占據了高達80%的市場份額，壟斷高端光刻機市場。
據悉，目前最先進的EUV光刻機精度為7納米，售價曾高達1億美元一臺，且全球僅僅ASML能夠生產。而英特爾、三星和臺積電都是ASML的股東，享有光刻機的優先供貨權。
與此同時，中國自主生產的光刻機精度約為90納米級別，與世界最先進水平大約有15年的技術差距。
芯片制造是我國最大的短板，芯片制造始終繞不開光刻機，直接制約著中國高科技企業的持續健康發展。
其實這些年來，國內早就有設備廠商，以及研究機構在對光刻機進行研發。如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等。
目前我國的北斗三號芯片目前已經成功突破了22納米的限制，它所配套的上海微電子技術也取得了重大突破，成功研制出了22nm的光刻機。
方正證券陳杭認為光刻機國產替代將迎來新的曙光，尤其是IC前道制造領域，將初步打破國外巨頭完全壟斷的局面，實現從0到1的突破。
建議關注以舉國之力助力國產替代的光刻產業鏈，一是光刻機核心組件：負責整體集成的上海微電子、負責光源系統的科益虹源，負責物鏡系統的國望光學，負責曝光光學系統的國科精密，負責雙工作臺的華卓精科，負責浸沒系統的啟爾機電；二是光刻配套設施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機缺陷檢測設備，涂膠顯影設備等。
下圖為光刻機產業鏈圖譜：
財聯社整理光刻機相關概念股包括萬業企業、張江高科、奧普光電、晶方科技、上海新陽等。
