財聯社9月17日訊,昨日盤后,國新辦就中國科學院“率先行動”計劃第一階段實施進展情況舉行發布會。
發布會上,中科院院長白春禮表示:面臨美國對中國高科技產業的打壓,我們希望在這方面能做一些工作。我們把美國“卡脖子”的清單變成我們科研任務清單進行布局,比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機,還有一些關鍵的核心技術、關鍵原材料等,我們爭取將來在第二期,聚焦在國家最關注的重大的領域,集中我們全院的力量來做。
目前高精度的光刻機只有荷蘭、美國、日本、德國等少數企業掌握,其中荷蘭的阿斯麥公司(ASML)更是其中的龍頭老大,并已經占據了高達80%的市場份額,壟斷高端光刻機市場。
據悉,目前最先進的EUV光刻機精度為7納米,售價曾高達1億美元一臺,且全球僅僅ASML能夠生產。而英特爾、三星和臺積電都是ASML的股東,享有光刻機的優先供貨權。
與此同時,中國自主生產的光刻機精度約為90納米級別,與世界最先進水平大約有15年的技術差距。
芯片制造是我國最大的短板,芯片制造始終繞不開光刻機,直接制約著中國高科技企業的持續健康發展。
其實這些年來,國內早就有設備廠商,以及研究機構在對光刻機進行研發。如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等。
目前我國的北斗三號芯片目前已經成功突破了22納米的限制,它所配套的上海微電子技術也取得了重大突破,成功研制出了22nm的光刻機。
方正證券陳杭認為光刻機國產替代將迎來新的曙光,尤其是IC前道制造領域,將初步打破國外巨頭完全壟斷的局面,實現從0到1的突破。
建議關注以舉國之力助力國產替代的光刻產業鏈,一是光刻機核心組件:負責整體集成的上海微電子、負責光源系統的科益虹源,負責物鏡系統的國望光學,負責曝光光學系統的國科精密,負責雙工作臺的華卓精科,負責浸沒系統的啟爾機電;二是光刻配套設施:包括光刻膠,光刻氣體,光掩模版,光刻機缺陷檢測設備,涂膠顯影設備等。
下圖為光刻機產業鏈圖譜:
財聯社整理光刻機相關概念股包括萬業企業、張江高科、奧普光電、晶方科技、上海新陽等。